Intel produziert die 18A Panther Lake-Chips mit der High-NA-EUV-Technologie von ASML.

ASML besttigte, dass es bei der Herstellung der Panther Lake-Chips fr Intels fortschrittlichsten 18A-Produktionsknoten auf High-NA-EUV-Technologie zurckgreift. Diese Entwicklung markiert den Beginn einer neuen ra in der Hochvolumen-Logikfertigung.

Erste Inbetriebnahme und Testverfahren Die erste High-NA-EUV-EXE-Anlage Besitz fr die Fertigung der ersten Panther Lake 18A-Produkte in Betrieb genommen. Die erste dieser fortschrittlichen Lithographiemaschinen wurde im Jahr 2024 in das Forschungs- und Entwicklungszentrum in Hillsboro, Bundesstaat Oregon, installiert.

Durch diese Inbetriebnahme wurde Intel zum ersten Unternehmen, das diese Ausrstung erfolgreich installiert und die Abnahmetests bestanden hat. 18A-Knoten und Panther Lake-Architektur Der 18A-Fertigungsprozess stellt einen der neuesten und anspruchsvollsten Schritte in Intels Chipproduktion dar.

Die High-NA-EUV-Technologie ermöglicht das Aufzeichnen dünnerer Leitungen, was die Transistordichte und die Energieeffizienz steigert. Die Panther-Lake-Prozessoren werden so konzipiert, dass sie dank der Präzision dieser neuen Lithografie-Generation höhere Leistungsziele erreichen können.