EPFL steigert die Spannungsbelastbarkeit von Galliumnitrid-Chips auf 3,4 Kilovolt
Forscher des POWERlab am EPFL in der Schweiz haben eine neue Transistormimikry auf Basis , die durch die Ausbalancierung über 3,4 Kilovolt standhält und die Spannungsfestigkeit kommerzieller Komponenten mehr als verfünffacht. Diese hitzebeständige Technologie zielt darauf ab, die Größe und den Energieverbrauch , erneuerbaren Energieanlagen und Rechenzentren für künstliche Intelligenz deutlich zu reduzieren.

Kurzfassung
Warum das wichtig ist
- Forscher des POWERlab am EPFL in der Schweiz haben eine neue Transistormimikry auf Basis , die durch die Ausbalancierung über 3,4 Kilovolt standhält und die Spannungsfestigkeit kommerzieller Komponenten mehr als verfünffacht.
- Diese hitzebeständige Technologie zielt darauf ab, die Größe und den Energieverbrauch , erneuerbaren Energieanlagen und Rechenzentren für künstliche Intelligenz deutlich zu reduzieren.
- Spannungssprünge in der Gallium-Nitrid-Technologie Das Halbleitermaterial Gallium-Nitrid (GaN), das in Ladegeräten für Smartphones für eine Verkleinerung und höhere Effizienz sorgt, stieß in industriellen Systemen, die hohe Spannungen erfordern, an physikalische Bruchgrenzen.
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Kernpunkt
Forscher des POWERlab am EPFL in der Schweiz haben eine neue Transistormimikry auf Basis , die durch die Ausbalancierung über 3,4 Kilovolt standhält und die Spannungsfestigkeit kommerzieller Komponenten mehr...
Warum relevant
Diese hitzebeständige Technologie zielt darauf ab, die Größe und den Energieverbrauch , erneuerbaren Energieanlagen und Rechenzentren für künstliche Intelligenz deutlich zu reduzieren.
Einordnung
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Funktionsprinzip des Lastausgleichsmechanismus Bei herkömmlichen GaN-Komponenten führte die Konzentration des elektrischen Feldes an einer einzigen empfindlichen Stelle, wenn der Transistor gesperrt war, unter Hochspannung zu Störungen.
Das Forschungsteam nutzte stattdessen die inhärente piezoelektrische Polarisationseigenschaft, anstatt externe chemische Dotierungen vorzunehmen. Die entwickelten Schichten wurden so ausgerichtet, dass die zweidimensionale Elektronengas-Schicht (2DEG) und die zweidimensionale Lochgas-Schicht (2DHG) sich gegenseitig ausbalancieren.
Laboranalysen ergaben, dass die 2DEG-Schicht 1,03 × 10¹³ Elektronen pro Quadratzentimeter und die 2DHG-Schicht 1,05 × 10¹³ Löcher pro Quadratzentimeter enthält.
Da der Unterschied zwischen beiden Werten
Da der Unterschied zwischen beiden Werten unter zwei Prozent liegt, kompensieren sich die positiven und negativen elektrischen Ladungen, wodurch sich das elektrische Feld gleichmäßig über die Oberfläche des Geräts verteilt. Diese rein dotierte Struktur behält auch bei Temperaturschwankungen ihre Stabilität bei.
Quellenprofil
Quelle und redaktionelle Angaben
- Quelle
- interestingengineering.com
- Canonical
- https://svytech.de/artikel/epfl-steigert-die-spannungsbelastbarkeit-von-galliumnitrid-chips-auf-34-kilovolt
- Quell-URL
- https://interestingengineering.com/science/new-gan-transistor-can-handle-3-4-kv
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