Zeiss-Chef warnt China: Ohne EUV-Chips kein Wettbewerb möglich
Chinas Bemühungen um die Herstellung fortschrittlicher Chips ohne Zugang zu den ßen auf erhebliche Hindernisse, da alternative Methoden wie Mehrfachbelichtung extrem komplexe Fertigungsprozesse, niedrige Ausbeuteraten und hohe Kosten verursachen. Experten und Zeiss-CEO Frank Rohmund bewerten diese Ansätze als kommerziell nicht nachhaltig, da sie ohne massive staatliche Subventionen nicht gegen globale Wettbewerber bestehen können und China möglicherweise an der Grenze der 7-Nanometer-Technologie feststecken wird.
Kurzfassung
Warum das wichtig ist
- Chinas Bemühungen um die Herstellung fortschrittlicher Chips ohne Zugang zu den ßen auf erhebliche Hindernisse, da alternative Methoden wie Mehrfachbelichtung extrem komplexe Fertigungsprozesse, niedrige Ausbeuteraten und hohe Kosten verursachen.
- Experten und Zeiss-CEO Frank Rohmund bewerten diese Ansätze als kommerziell nicht nachhaltig, da sie ohne massive staatliche Subventionen nicht gegen globale Wettbewerber bestehen können und China möglicherweise an der Grenze der 7-Nanometer-Technologie feststecken wird.
- # Zeiss-Chef warnt China: Ohne EUV-Chips kein Wettbewerb möglich Während der globale Wettbewerb im Halbleitersektor intensiviert, stoßen Chinas Bestrebungen, fortschrittliche Mikrochips herzustellen, auf erhebliche Hürden.
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Chinas Bemühungen um die Herstellung fortschrittlicher Chips ohne Zugang zu den ßen auf erhebliche Hindernisse, da alternative Methoden wie Mehrfachbelichtung extrem komplexe Fertigungsprozesse, niedrige...
Warum relevant
Chinesische Fertigungsbetriebe, die keinen Zugriff auf die ändischen Konzern ASML entwickelten Extrem-Ultraviolett-(EUV)-Lithographiemaschinen haben, versuchen, diese technologische Lücke durch alternative...
Einordnung
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Chinesische Fertigungsbetriebe, die keinen Zugriff auf die ändischen Konzern ASML entwickelten Extrem-Ultraviolett-(EUV)-Lithographiemaschinen haben, versuchen, diese technologische Lücke durch alternative Verfahren zu schließen. Frank Rohmund, CEO führendem Hersteller, bewertet diese Anstrengungen jedoch als aus kommerzieller Sicht nicht nachhaltig.
Rohmund argumentiert, dass Projekte dieser Art ohne massive staatliche Subventionen keine Chance gegen globale Wettbewerber auf einem freien Markt haben. ### Warum die Mehrfachbelichtungsmethode an Grenzen stößt Chinesische Foundries, die auf die EUV-Technologie keinen Zugriff besitzen, setzen vermehrt auf Mehrfachbelichtungstechniken (Multi-Patterning) mit bestehenden Tief-Ultraviolett-(DUV)-Maschinen.
Zwar ist es mit diesem Ansatz technisch möglich, Chips im Bereich von 5 Nanometern zu fertigen, doch der Prozess birgt erhebliche Nachteile.
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Quellenprofil
Quelle und redaktionelle Angaben
- Quelle
- wccftech.com
- Canonical
- https://svytech.de/artikel/zeiss-chef-warnt-china-ohne-euv-chips-kein-wettbewerb-moglich
- Quell-URL
- https://wccftech.com/zeiss-ceo-says-china-commercial-chip-cannot-happen-without-euv/
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21.07.2026
