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IMEC plant bis 2038 0,3-Nanometer-Chips mit CFET-Technologie

Das belgische Forschungsinstitut Imec hat gemeinsam mit führenden Halbleiterherstellern eine Roadmap vorgestellt, die bis 2038 die Entwicklung von 0,3-Nanometer-Technologien und den Übergang zur vertikalen CFET-Architektur plant. Da die Grenzen des klassischen horizontalen Transistorskalierens erreicht sind, wird die zukünftige Steigerung der Integrationsdichte primär durch die Reduzierung der Zellhöhen, vertikale Stapelung und die Heterogene Large-Scale Integration (HLSI) erfolgen.

29. Juni 2026RedaktionLive Redaktion
IMEC plant bis 2038 0,3-Nanometer-Chips mit CFET-Technologie

Kurzfassung

Warum das wichtig ist

tomshardware.comTechnologie
  • Das belgische Forschungsinstitut Imec hat gemeinsam mit führenden Halbleiterherstellern eine Roadmap vorgestellt, die bis 2038 die Entwicklung von 0,3-Nanometer-Technologien und den Übergang zur vertikalen CFET-Architektur plant.
  • Da die Grenzen des klassischen horizontalen Transistorskalierens erreicht sind, wird die zukünftige Steigerung der Integrationsdichte primär durch die Reduzierung der Zellhöhen, vertikale Stapelung und die Heterogene Large-Scale Integration (HLSI) erfolgen.
  • Zielsetzung der Roadmap Das in Belgien ansssige Forschungsinstitut Imec hat eine Roadmap fr das Jahr 2026 vorgestellt, die den Weg der Halbleiterindustrie in die Zukunft aufzeigt.

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Redaktionelle Einordnung

Eigene Kontextschicht

Kernpunkt

Das belgische Forschungsinstitut Imec hat gemeinsam mit führenden Halbleiterherstellern eine Roadmap vorgestellt, die bis 2038 die Entwicklung von 0,3-Nanometer-Technologien und den Übergang zur vertikalen...

Warum relevant

Da die Grenzen des klassischen horizontalen Transistorskalierens erreicht sind, wird die zukünftige Steigerung der Integrationsdichte primär durch die Reduzierung der Zellhöhen, vertikale Stapelung und die...

Einordnung

SvyTech ordnet die Meldung aus tomshardware.com als Teil des Themenfelds Technologie ein und verweist auf den Originalartikel, damit Leser Fakten, Quelle und Kontext nachvollziehen koennen.

Gemeinsam mit Branchenriesen wie TSMC, Intel, Nvidia, AMD, Samsung und ASML erarbeiteter Plan skizziert die Herausforderungen, denen sich die Chipproduktion in den kommenden zwei Jahren stellen wird, sowie die geplanten Meilensteine zur Bewltigung dieser Hrden.

Gem der Roadmap soll bis zum Jahr 2038 eine Produktionstechnologie auf dem Niveau von 0,3 Nanometern, also 3 ngstrm, erreicht werden. Eine neue ra nach der GAA-Technologie Derzeit nutzt die Industrie eine Transistormimikry der 2-Nanometer-Klasse (N2), die ber einen Kontakt-Poly-Silizium-Abstand (CPP) von 48 Nanometern und eine Zellhhe 132 Nanometern verfgt.

Es wird erwartet, dass die bestehende Gate-All-Around (GAA) Nanosheet-Transistorstruktur noch etwa sieben Jahre lang eingesetzt werden kann. Imec rechnet damit, dass ab 2028 die A14-Klasse (1,4 Nanometer) eingefhrt wird. In diesem Stadium soll die CPP-Manahme auf 45 Nanometer und die Zellhhe auf 115 Nanometer reduziert werden.

Technik und Auswirkungen

Quellenprofil

Quelle und redaktionelle Angaben

Quelle
tomshardware.com
Canonical
https://svytech.de/artikel/imec-plant-bis-2038-03-nanometer-chips-mit-cfet-technologie
Quell-URL
https://www.tomshardware.com/tech-industry/semiconductors/imecs-2026-roadmap-details-0-3nm-nodes-by-2038-cfet-transistors-become-viable-at-0-7nm-company-redefines-moores-law-as-cell-sizes-gain-importance-for-density

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Es ist bekannt, dass Hersteller wie Intel und TSMC ihre Produktionspläne an diesen Zeitplan anpassen. CFET und vertikale Strukturierung Einer der kritischsten Wandel in den zukünftigen Plänen wird mit den 2033 voraussichtlich herzustellenden A7-Chips der 0,7-Nanometer-Klasse eintreten.

An dieser Stelle ist geplant, n- und p-Typ-Transistoren auf die CFET-Architektur (Complementary FET) mit vertikaler Stapelung umzusteigen. Die CFET-Struktur ermöglicht eine effizientere Nutzung des Flächenvermögens, indem sie eine dritte Dimension zur Transistor-Skalierung hinzufügt.

Mit dem A7-Prozess wird es zwingend erforderlich, die Standardzellhöhen auf etwa 80 Nanometer zu reduzieren und das Stromversorgungsnetz auf die Rückseite des Chips zu verlegen (BSPDN).

Technik und Auswirkungen

Das Mooresche Gesetz bleibt nicht durch Transistorgrößen begrenzt Traditionell drückte das Mooresche Gesetz aus, dass sich die Anzahl der Transistoren auf einem Chip alle zwei Jahre verdoppelt. Die Daten, dass sich die kritische Polymerschichtabstand (CPP) nach dem A10-Prozess im Jahr 2030 auf 42 Nanometer stabilisieren wird.

Dies besttigt, dass die Grenzen des klassischen horizontalen Transistorskalierens erreicht wurden. Die Steigerung der Integrationsdichte wird knftig nicht mehr primr durch die Verkleinerung der Transistoren selbst, sondern durch die Reduzierung der Zellhhen und vertikale Integration erreicht werden.

Beispielsweise wird die Zellstruktur mit sechs Metallleitungen im N2-Prozess im A3-Prozess auf drei Metallleitungen reduziert, um die Flcheneffizienz zu erhalten. Heterogene Large-Scale Integration (HLSI) Es wird erwartet, dass sich die Branche auf die Transistordichte lst und in die ra der Heterogenen Large-Scale Integration (HLSI) bergeht.

Technischer Hintergrund

Im Zuge des steigenden Aufwands fr KI-Aufgaben werden Logikschaltungen, Speicher, Stromversorgungssysteme und optische Ein- und Ausgnge mittels fortschrittlicher dreidimensionaler Packungsmethoden auf einer einzigen Plattform integriert werden.

Imec entwickelt weiterhin den XTCO-Designrahmen, der logische, Speicher-, Kühl- und Verpackungsprozesse integriert, um diese Systeme zu optimieren.

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Originalquelle: tomshardware.com

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