IMEC plant bis 2038 0,3-Nanometer-Chips mit CFET-Technologie
Das belgische Forschungsinstitut Imec hat gemeinsam mit führenden Halbleiterherstellern eine Roadmap vorgestellt, die bis 2038 die Entwicklung von 0,3-Nanometer-Technologien und den Übergang zur vertikalen CFET-Architektur plant. Da die Grenzen des klassischen horizontalen Transistorskalierens erreicht sind, wird die zukünftige Steigerung der Integrationsdichte primär durch die Reduzierung der Zellhöhen, vertikale Stapelung und die Heterogene Large-Scale Integration (HLSI) erfolgen.

Kurzfassung
Warum das wichtig ist
- Das belgische Forschungsinstitut Imec hat gemeinsam mit führenden Halbleiterherstellern eine Roadmap vorgestellt, die bis 2038 die Entwicklung von 0,3-Nanometer-Technologien und den Übergang zur vertikalen CFET-Architektur plant.
- Da die Grenzen des klassischen horizontalen Transistorskalierens erreicht sind, wird die zukünftige Steigerung der Integrationsdichte primär durch die Reduzierung der Zellhöhen, vertikale Stapelung und die Heterogene Large-Scale Integration (HLSI) erfolgen.
- Zielsetzung der Roadmap Das in Belgien ansssige Forschungsinstitut Imec hat eine Roadmap fr das Jahr 2026 vorgestellt, die den Weg der Halbleiterindustrie in die Zukunft aufzeigt.
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Kernpunkt
Das belgische Forschungsinstitut Imec hat gemeinsam mit führenden Halbleiterherstellern eine Roadmap vorgestellt, die bis 2038 die Entwicklung von 0,3-Nanometer-Technologien und den Übergang zur vertikalen...
Warum relevant
Da die Grenzen des klassischen horizontalen Transistorskalierens erreicht sind, wird die zukünftige Steigerung der Integrationsdichte primär durch die Reduzierung der Zellhöhen, vertikale Stapelung und die...
Einordnung
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Gemeinsam mit Branchenriesen wie TSMC, Intel, Nvidia, AMD, Samsung und ASML erarbeiteter Plan skizziert die Herausforderungen, denen sich die Chipproduktion in den kommenden zwei Jahren stellen wird, sowie die geplanten Meilensteine zur Bewltigung dieser Hrden.
Gem der Roadmap soll bis zum Jahr 2038 eine Produktionstechnologie auf dem Niveau von 0,3 Nanometern, also 3 ngstrm, erreicht werden. Eine neue ra nach der GAA-Technologie Derzeit nutzt die Industrie eine Transistormimikry der 2-Nanometer-Klasse (N2), die ber einen Kontakt-Poly-Silizium-Abstand (CPP) von 48 Nanometern und eine Zellhhe 132 Nanometern verfgt.
Es wird erwartet, dass die bestehende Gate-All-Around (GAA) Nanosheet-Transistorstruktur noch etwa sieben Jahre lang eingesetzt werden kann. Imec rechnet damit, dass ab 2028 die A14-Klasse (1,4 Nanometer) eingefhrt wird. In diesem Stadium soll die CPP-Manahme auf 45 Nanometer und die Zellhhe auf 115 Nanometer reduziert werden.
Technik und Auswirkungen
Quellenprofil
Quelle und redaktionelle Angaben
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- https://www.tomshardware.com/tech-industry/semiconductors/imecs-2026-roadmap-details-0-3nm-nodes-by-2038-cfet-transistors-become-viable-at-0-7nm-company-redefines-moores-law-as-cell-sizes-gain-importance-for-density
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29.06.2026


