Europa beschleunigt die Fertigung von photonischen Chips für die Halbleiterunabhängigkeit
ASML und das niederländische Forschungsinstitut TNO haben eine strategische Partnerschaft eingegangen, um im neu errichteten Pilotenwerk in Eindhoven die Großserienproduktion photonischer Chips voranzutreiben. Im Rahmen dieser Kooperation werden ASMLs fortschrittliche Lithographiesysteme installiert, um die Skalierung der Fertigung für 15,24 Zentimeter große Indiumphosphid-Wafer zu ermöglichen und den Übergang Anwendung zu beschleunigen.
Kurzfassung
Warum das wichtig ist
- ASML und das niederländische Forschungsinstitut TNO haben eine strategische Partnerschaft eingegangen, um im neu errichteten Pilotenwerk in Eindhoven die Großserienproduktion photonischer Chips voranzutreiben.
- Im Rahmen dieser Kooperation werden ASMLs fortschrittliche Lithographiesysteme installiert, um die Skalierung der Fertigung für 15,24 Zentimeter große Indiumphosphid-Wafer zu ermöglichen und den Übergang Anwendung zu beschleunigen.
- ASML, der niederländische Hersteller, und das Forschungsinstitut TNO haben eine strategische Partnerschaft geschlossen, um das europäische Ökosystem für photonische Chips zu stärken und den Übergang zur Großserienproduktion zu beschleunigen.
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Redaktionelle Einordnung
Kernpunkt
ASML und das niederländische Forschungsinstitut TNO haben eine strategische Partnerschaft eingegangen, um im neu errichteten Pilotenwerk in Eindhoven die Großserienproduktion photonischer Chips voranzutreiben.
Warum relevant
Im Rahmen dieser Kooperation werden ASMLs fortschrittliche Lithographiesysteme installiert, um die Skalierung der Fertigung für 15,24 Zentimeter große Indiumphosphid-Wafer zu ermöglichen und den Übergang...
Einordnung
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Die Zusammenarbeit wird im TNO Photonics-Chip-Pilotenwerk durchgeführt, dessen Bau auf dem High-Tech-Campus in der niederländischen Stadt Eindhoven im Gange ist. Das Zentrum soll zu einer wichtigen Basis für die Entwicklung integrierter photonischer Prozesse in Europa werden.
Photonische Technologie und Produktionskapazität Die integrierte photonische Technologie nutzt Licht statt Elektrizität zur Verarbeitung und Übertragung als einer der effektivsten Wege, um den Energieverbrauch in zukünftigen elektronischen Systemen zu senken und gleichzeitig die Datenübertragungsgeschwindigkeiten zu erhöhen.
Im Rahmen der Vereinbarung wird ASML fortschrittliche Lithographiesysteme, einschließlich DUV- und I-Line-Scanner, in das Pilotenwerk installieren. Ein neuer Pilotlauf wird mit 15,24 Zentimeter großen Wafer-Platten für die hochvolumige Fertigung fortschrittlicher Indiumphosphid (InP)-Photonik-Chips geplant.
Technik und Auswirkungen
Quellenprofil
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