Chinesischer Startup behauptet: Photonen-Chip-Fertigung ohne DUV-Lithografie durch Nanoimprint-Prozess senkt Kosten um 90 % bei 8-Zoll-Wafern.

Das Unternehmen betonte, dass dies erreicht wurde, indem der Bedarf an tiefunter UV-Lithografie (DUV) „vollständig vermieden" wurde – ein bedeutender Durchbruch im chinesischen Bestreben, die Abhängigkeit verringern, die weiterhin Exportbeschränkungen unterliegen.

Ein tieferer Blick auf die Chip-Herstellungskette TSMCs 165-Milliarden-Dollar-US- Untersuchte Investitionen: China soll EUV-Werkzeuge nachbauen. China setzt auf DUV, während die EUV-Sperre die Halbleiterfertigung neu gestaltet.

Statt konventioneller optischer Lithografie verwendete Prinano sein PLAS-Vakuum-Luftkissen-Nanoimprint-Lithografie-(NIL)-System, das laut Unternehmensangaben die Produktionskosten auf etwa ein Zehntel der herkömmlichen DUV-basierten Verfahren senken kann und gleichzeitig die Wafer-Ebene-Fertigung öglicht.

Technik und Auswirkungen

Moderne Chips werden in der Regel mit hochkomplexen DUV- oder noch fortschrittlicheren EUV-(extreme ultraviolette)-Systemen hergestellt, die Schaltkreismuster mithilfe.

Diese Maschinen beinhalten einige der komplexesten Optiksysteme, die je gebaut wurden, und können Hunderte Nanoimprint-Lithografie verfolgt einen völlig anderen Ansatz: Anstatt Muster mit Licht zu projizieren, werden nanoskalige Strukturen physisch in eine speziell vorbereitete Resist-Schicht gepresst, wobei mikroskopische Muster direkt auf die Wafer-Oberfläche gestempelt werden.

Dieser Prozess eliminiert die Notwendigkeit vieler teurer optischer Systeme, die bei konventionellen Lithografieanlagen erforderlich sind. Die Nanoimprint-Lithografie wird seit langem als potenzielle Alternative zur konventionellen optischen Lithografie betrachtet, aufgrund ihres Potenzials für geringere Kosten und extrem hohe Musterauflösung.

Technik, Energie und Einsatz

Dennoch hat sich die Technologie trotz ihrer vielversprechenden Eigenschaften schwer durchsetzen können, um in der Halbleiterfertigung breite Anwendung zu finden, da Bedenken hinsichtlich Fehlerquoten, Verschleiß der Templates, Durchsatz und Produktionsausbeute bestehen – alle Faktoren, die in Hochvolumenfertigungsumgebungen zunehmend an Bedeutung gewinnen.

Prinano, das 2017 gegründet wurde, hat in den vergangenen Jahren daran gearbeitet, diese Einschränkungen zu überwinden, indem es ein eigenes Ökosystem für die Nanoimprint-Lithografie entwickelt hat.

Ein wichtiger Meilenstein war das Jahr 2025, als das Unternehmen die Lieferung eines Systems ankündigte, das es als das erste Halbleiter-Nanoimprint-Lithographiesystem Chinas für einen inländischen Kunden bezeichnete und das als frühe Initiative zur Kommerzialisierung der Technologie markiert.