Chinesischer Hersteller startet weltweit erste Produktionslinie für 15,24- und 20,32-Zoll-Galliumoxid-Displays
Die in Hangzhou ansässige Garen Semiconductor hat als erstes Unternehmen weltweit die Serienproduktion Größen 15,24 und 20,32 Zentimeter aufgenommen, um die Herstellungskosten für Leistungselektronikkomponenten für Elektrofahrzeuge und Hochspannungsnetze drastisch zu senken. Durch die Kombination eines patentierten Guss- und Wachstum-einkristall-Prozesses mit einem optimierten MOCVD-Verfahren konnte die Substrat-Ausbeute im Vergleich zu herkömmlichen Methoden um das Drei- bis Vierfache erhöht und der Iridiumverbrauch sowie die Kosten pro Platte um 80 Prozent reduziert werden.
Kurzfassung
Warum das wichtig ist
- Die in Hangzhou ansässige Garen Semiconductor hat als erstes Unternehmen weltweit die Serienproduktion Größen 15,24 und 20,32 Zentimeter aufgenommen, um die Herstellungskosten für Leistungselektronikkomponenten für Elektrofahrzeuge und Hochspannungsnetze drastisch zu senken.
- Durch die Kombination eines patentierten Guss- und Wachstum-einkristall-Prozesses mit einem optimierten MOCVD-Verfahren konnte die Substrat-Ausbeute im Vergleich zu herkömmlichen Methoden um das Drei- bis Vierfache erhöht und der Iridiumverbrauch sowie die Kosten pro Platte um 80 Prozent reduziert werden.
- Serienproduktion auf Halbleiterwafern der nächsten Generation Die in Hangzhou ansässige Garen Semiconductor aus China gab bekannt, dass sie die weltweit erste Produktionslinie für homoepitaktische Galliumoxid-Wafer-Platten mit den Abmessungen von 15,24 und 20,32 Zentimetern aufgebaut hat.
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Redaktionelle Einordnung
Kernpunkt
Das Unternehmen teilte mit, dass es führende Chip-Herstellern mit der Lieferung von 15,24-Zentimeter-homoepitaktischen Galliumoxid-Wafern die stabile Serienproduktion eingeleitet hat.
Warum relevant
Vorteile und Anwendungsbereiche Bereichen wie Elektrofahrzeugen, Hochspannungsnetzen, photovoltaischen Energiespeichersystemen und fortschrittlichen Hochfrequenzkommunikationssystemen eingesetzt.
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Das Unternehmen teilte mit, dass es führende Chip-Herstellern mit der Lieferung von 15,24-Zentimeter-homoepitaktischen Galliumoxid-Wafern die stabile Serienproduktion eingeleitet hat.
Vorteile und Anwendungsbereiche Bereichen wie Elektrofahrzeugen, Hochspannungsnetzen, photovoltaischen Energiespeichersystemen und fortschrittlichen Hochfrequenzkommunikationssystemen eingesetzt.
Die extrem breite Bandlücke des Materials ermöglicht es Bauelementen, im Vergleich zu herkömmlichem Silizium deutlich höhere Spannungen und Temperaturen zu verkraften, wodurch es eine ideale Grundlage für die nächste Generation der Leistungselektronik darstellt.
Einordnung fuer Autofahrer
Große Reduktion der Produktionskosten Die meisten heute kommerziell erhältlichen Galliumoxid-Platten haben Durchmesser zwischen 5,08 und 10,16 Zentimetern, was die großindustrielle Herstellung fortschrittlicher Leistungselektronik erschwert.
Quellenprofil
Quelle und redaktionelle Angaben
- Quelle
- interestingengineering.com
- Canonical
- https://svytech.de/artikel/chinesischer-hersteller-startet-weltweit-erste-produktionslinie-fur-1524-und-2032-zoll-gal
- Quell-URL
- https://interestingengineering.com/innovation/garen-6-inch-8-inch-gallium-oxide-wafer-production
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